MC-2000D塗層(ceng)測厚儀(yi)

應用(yong)範(fan)圍(wei)：

MC-2000D塗層測厚儀(yi)采(cai)用(yong)磁(ci)性(xing)測厚法，可以方(fang)便無(wu)損(sun)地(di)測量鐵磁材料(liao)上非(fei)磁性塗層的厚度(du)，如鋼(gang)鐵表面上的鋅、銅(tong)、鉻等鍍(du)層(ceng)或油漆(qi)、搪瓷、玻(bo)璃(li)鋼、噴(pen)塑、瀝青等塗(tu)層(ceng)的厚度(du)。該儀(yi)器廣泛(fan)應(ying)用(yong)於機(ji)械、汽車(che)、造船(chuan)、石(shi)油、化工(gong)、電(dian)鍍(du)、噴(pen)塑、搪瓷、塑料(liao)等行(xing)業(ye)。

工作(zuo)原理(li)：

采(cai)用(yong)電(dian)磁感(gan)應法測量塗(tu)（鍍(du)）層(ceng)的厚度(du)。位(wei)於部件表面的探頭(tou)產(chan)生(sheng)壹個(ge)閉(bi)合的磁回(hui)路，隨著探(tan)頭(tou)與(yu)鐵磁性材(cai)料(liao)間的距離(li)的改變(bian)，該(gai)磁回路將不(bu)同程(cheng)度(du)的改變(bian)，引(yin)起磁(ci)阻及探頭(tou)線(xian)圈(quan)電(dian)感(gan)的變(bian)化(hua)。利(li)用(yong)這(zhe)壹(yi)原理(li)可(ke)以精確(que)地(di)測量探(tan)頭(tou)與(yu)鐵磁性材(cai)料(liao)間的距離(li)，即塗(tu)（鍍(du)）層(ceng)厚度。

MC-2000D塗層(ceng)測厚儀(yi)技術(shu)參數：

影響測量的若幹(gan)因素：

基(ji)體(ti)金屬(shu)磁化

磁(ci)性(xing)法測量受(shou)基(ji)體(ti)金屬(shu)磁性變(bian)化(hua)的影響（在實(shi)際(ji)應(ying)用(yong)中，低碳鋼磁性(xing)的變(bian)化(hua)可以認(ren)為是輕(qing)微的）。為了(le)避免熱處(chu)理(li)、冷(leng)加工等(deng)因素的影響，應使(shi)用(yong)與(yu)鍍(du)件金(jin)屬具有(you)相(xiang)同性(xing)質(zhi)的鐵基(ji)片(pian)上 對(dui)儀(yi)器進行(xing)校(xiao)對(dui)。

基(ji)體(ti)金屬(shu)厚度

每(mei)壹(yi)種儀(yi)器都(dou)有壹個(ge)基(ji)體(ti)金屬(shu)的臨界(jie)厚度(du)，大(da)於這(zhe)個(ge)厚度(du)測量就(jiu)不受(shou)基(ji)體(ti)厚度(du)的影響。

邊緣效應

本(ben)儀(yi)器對(dui)試片(pian)表面形(xing)狀的陡變(bian)敏(min)感(gan)，因此(ci)在靠(kao)近(jin)試片(pian)邊(bian)緣或內轉角處(chu)進行(xing)測量是(shi)不可(ke)靠(kao)的。

曲(qu)率(lv)

試(shi)件的曲(qu)率(lv)對(dui)測量有(you)影響，這種影響是隨著曲(qu)率(lv)半(ban)徑減小(xiao)明(ming)顯增大(da)。因此(ci)不應(ying)在(zai)試(shi)件超(chao)過允許(xu)的曲(qu)率(lv)半(ban)徑的彎曲(qu)面(mian)上測量。

表面粗(cu)糙(cao)度

基(ji)體(ti)金屬(shu)和表面粗(cu)糙(cao)度對(dui)測量有(you)影響。粗糙(cao)度增大(da)，影響增大(da)。粗(cu)糙(cao)表面會引(yin)起系(xi)統誤(wu)差和偶(ou)然(ran)誤(wu)差。每次(ci)測量時(shi)，在(zai)

不(bu)同位(wei)置(zhi)上增加測量的次數，克服這(zhe)種偶(ou)然(ran)誤(wu)差。

如果(guo)基(ji)體(ti)金屬(shu)粗糙(cao)還(hai)必(bi)須(xu)在(zai)未塗(tu)覆(fu)的粗糙(cao)相類(lei)似(si)的基(ji)體(ti)金屬(shu)試件上取幾個(ge)位(wei)置(zhi)校(xiao)對(dui)儀(yi)器的零(ling)點；或用(yong)沒(mei)有(you)腐蝕性(xing)的溶(rong)液除去(qu)在(zai)基(ji)體(ti)金屬(shu)上的覆(fu)蓋層，再(zai)校(xiao)對(dui)儀(yi)器零(ling)點。

磁(ci)場(chang)

周(zhou)圍(wei)各(ge)種電(dian)氣設備(bei)所(suo)產(chan)生的強(qiang)磁場(chang)，會嚴(yan)重地幹擾磁性測量厚(hou)度的工作(zuo)。

附著物質(zhi)

本(ben)儀(yi)器對(dui)那些妨礙探頭(tou)與(yu)覆(fu)蓋層表面緊密(mi)接觸的附著物質(zhi)敏(min)感(gan)。因此(ci)必(bi)須(xu)清(qing)除(chu)附(fu)著物質(zhi)，以保(bao)證(zheng)探(tan)頭(tou)與(yu)覆(fu)蓋層表面直(zhi)接接觸。

探頭(tou)的放(fang)置

探(tan)頭(tou)的放(fang)置方(fang)式對(dui)測量有(you)影響，在測量中使探頭(tou)與(yu)試樣(yang)表面保(bao)持(chi)垂直(zhi)。

試片(pian)的變(bian)形(xing)

探頭(tou)使(shi)軟(ruan)覆(fu)蓋層試(shi)件變(bian)形(xing)，因此(ci)在這(zhe)些試件上會出(chu)現(xian)不太(tai)可(ke)靠(kao)的數據。

讀數次數

通常儀(yi)器的每次(ci)讀數並(bing)不*相同。因此(ci)必(bi)須(xu)在(zai)每(mei)壹(yi)測量面(mian)積內取幾個(ge)測量值(zhi)，覆(fu)蓋層厚(hou)度(du)的局部差異，也(ye)要(yao)求在(zai)給(gei)定(ding)的面積(ji)內進行(xing)測量，表面粗(cu)糙(cao)時(shi)更應如(ru)此(ci)。